​华裔工程师向中国走私管制晶片案开审

　　洛杉矶华裔电气工程师施义池（Yi-Chi Shih，音译），被控向中国出口受管制的敏感技术和晶片案，14日在洛杉矶联邦法院审理。

洛杉矶检察官办公室发言人Thom Mrozek表示，当天该案已进入审理阶段，开始陪审团筛选流程。

　　施义池在去年1月被联邦调查局(FBI)逮捕，起诉书显示，他有台湾和美国双重国籍。他曾担任过美国国防部承包商员工、电气工程师。该案还有另一位被告I-Shiang Shin也是电气工程师，有台湾和加拿大双重国籍。两人被控非法获取有军事用途的科技和电脑晶片，并在没有合法出口许可证下，出口给中国成都的GaStone科技公司。