中芯7奈米惊人突破被挖猛料？爆掌声背后1致命伤

专家指出，中芯7奈米良率不到50%。（示意图/达志影像/shutterstock）

华为绕过美制裁，新旗舰机内建麒麟9000S芯片，采用中芯国际7奈米制程打造，引起市场轰动。外媒去年爆料，中芯出货7奈米挖矿芯片，可能是复制台积电7奈米技术。

由于中芯使用深紫外光（DUV）旧设备生产7奈米芯片，良率低于50%，不如业界标准90%以上，良率不佳将冲击生产规模，难以协助华为抢回智慧机市场主导地位。

荷兰半导体设备巨头艾司摩尔（ASML）的极紫外光（EUV）微影设备，是打造7奈米和更先进制程的重要设备，虽然DUV不是最先进机台，但对制造各种电子产品所需要的芯片来说，仍是不可或缺的。

路透报道，分析人士指出，中芯买不到EUV的情况下，只透过DUV能够推进先进的7奈米技术，这项惊人突破的难度，凸显中国芯片技术能力的韧性。

部分研究机构预测，中芯7奈米制程良率低于50%，不如业界正常标准90%以上，使得芯片出货量限制在200万至400万颗左右，无法助攻华为抢回智慧机市场主导地位。

投行杰富瑞（Jefferies）的分析师团队认为，华为预估Mate 60 Pro出货量为1千万支，但可能无法全部搭载中国制造的7奈米芯片，在这种情况下，华为可能转向10奈米芯片，预计良率只有20%，远低于多数消费性产品的90%。